A Rapidus pretende implantar 10 máquinas EUV para a produção de chips de 2 nm no Japão

A Rapidus, uma fabricante japonesa de chips, está planejando está planejando implantar 10 sistemas de litografia de ultravioleta extremo (EUV) de última geração em suas novas unidades de produção - uma medida que deverá dar um impulso notável à fabricação avançada de chips no Japão. O CEO Atsuyoshi Koike compartilhou esses planos para as próximas fábricas IIM-1 e IIM-2, conforme relatado por Nikkan Kogyo Shimbun.

As coisas começaram em dezembro de 2024, quando a primeira máquina de litografia EUV chegou ao Aeroporto de New Chitose - a primeira no Japão. De acordo com o cronograma da empresa, a Rapidus quer dar início à produção experimental de 2 nm no IIM-1 já em abril de 2025, com o objetivo de enviar amostras de chips para a gigante de semicondutores Broadcom, sediada nos EUA, até junho.

Analisando a capacidade de produção, as estimativas sugerem que, se cinco ferramentas de EUV funcionarem em sua capacidade máxima, o IIM-1 poderá processar algo entre 17.000 e 20.000 wafers por mês - assumindo cerca de 20 camadas de EUV no processo de fabricação. A Rapidus usará o scanner Twinscan NXE:3800E da ASML, que teoricamente pode processar até 220 wafers por hora com uma dose de 30mj/cm².

Com uma ambiciosa meta de produção em massa de chips de 2 nm definida para 2027a Rapidus está entrando em um campo de jogo repleto de pesos pesados já estabelecidos. A TSMC, por exemplo, planeja começar a produzir chips de 2 nm em 2025 e já tem clientes importantes como Apple, Nvidia, AMD e Qualcomm alinhados.

Enquanto isso, a Samsung também está tomando medidas, convertendo algumas de suas linhas de produção de 3nm para lidar com a tecnologia de 2nm, realizando testes em parceria com empresas como Nvidia e Qualcomm.